FTW反滲透系統阻垢劑技術由冷卻循環水和鍋爐用水化學演變而來。對為數眾多各式各樣的阻垢劑在不同的應用場合和所采用的有機化合物所取得的效果和效率差別很大。 采用聚丙烯酸類阻垢劑時要特別小心在鐵含量較高時可能會引起膜污染這種污染會增加膜的操作壓力FTW有效清除這類污染要進行酸洗。 如果在預處理中使用了陽離子混凝劑或助濾劑，在使用陰離子性阻垢劑時要特別注意。會產生一種粘稠的粘性污染物污染會造成操作壓力增加而且這種污染物清洗非常困難。 六偏磷酸鈉SHMP是早期在反滲透中使用的一種普通阻FTW垢劑但隨著專用阻垢劑的出現用量已經大大減少了。SHMP 的使用有一些限制。每 2-3 天要配制一次溶液因為暴露在空氣中會水解FTW發生水解后不FTW僅會降低阻垢效果而且還會造成磷酸鈣結垢的可能性。 使用 SHMP可減少碳酸鈣結垢LSI 可達到1.0。 阻垢劑阻礙了 RO 進水和濃水中鹽結晶的生長因而可以容許難溶鹽在濃水中超過飽和溶解度。阻垢劑的使用可代替加酸也可以配合加酸使用。有許多因素會影響礦物質結垢的形成。溫度降低會減小結垢礦物質的溶解度碳酸鈣除外與大多數物質相反它的溶解度隨溫度升高而降低TDS 的升高會增加難溶鹽的溶解度這是因為高離子強度干擾了晶種的形成 FTW。 最常見的結垢性無機鹽有 ◆ 碳酸鈣CaCO3 ◆ 硫酸鈣CaSO4 ◆ 硫酸鍶SrSO4 ◆ 硫酸鋇BaSO4 不太常見的結垢性礦物質有 磷酸鈣Ca3（PO4）2 氟化鈣CaF2 分散劑是一系列合成聚合物用來阻止膜面上污染物的聚集和沉積。 分散劑有時也叫抗污染劑通常也有阻垢性能。FTW對于不同的污染物不同的分散劑的效率區別很大，所以要知道所對付的污染物是什么。
　　需要分散劑處理的污染物有 ● 礦物質結垢 ● 金屬氧化物和氫氧化物鐵、錳和鋁 ● 聚合硅酸 ● 膠體物質指那些無定型懸浮顆?？赡芎型?、鐵、鋁、硅、硫和有機物 ● 生物性污染物 硅酸的超飽和溶解度難以預測在水中有鐵存在時會形成硅酸鐵硅酸的最大飽和濃度會大大降低。其他的因素還有溫度和 pH 值。 理想的添加量和結垢物質及污染物最大飽和度最好通過藥劑供應商提供的專用軟件包來確定。在海德能反滲透設計軟件中采用的是較為保守的難溶鹽超飽和度估算。 過量添加阻垢劑/分FTW散劑會導致在膜面上形成沉積造成新的污染問題。在設備停機時一定要將阻垢劑及分散劑徹底沖洗出來 否則會留在膜上產生污染問題。 在用 RO 進水進行低壓沖洗時要停止向系統注入阻垢劑及分散劑。 阻垢劑/分散劑注入系統的設計應該保證在進入反滲透元件之前能夠充分混合靜態攪拌器是一個非常有效的混FTW合方法。 大多數系統的注入點設FTW在 RO 進水保安過濾器之前通過在過濾器中的緩沖時間及 RO 進水泵的攪拌作用來促進混合。如果系統采用加酸調節 pH推薦加酸點要在上游足夠遠的地方在到達阻垢劑/分散劑注入點之前已經完全混合均勻。 注入阻垢劑/分散劑的加藥泵要調到最高注射頻率 建議的注射頻率是最少 5 秒鐘一次。 阻垢 劑/分散劑的典型添加量為 2-5ppm。為了讓加藥泵以最高頻FTW率工作，需要對藥劑進行稀釋。阻垢劑/分散劑商品有濃縮液也有固體粉末。稀釋了的阻垢劑/分散劑在儲FFTW槽中會被生物污染污染的程度取決于室溫和稀釋的倍數。推薦稀釋液的保留時間在 7-10 天左右。正常情況下未經稀釋的阻垢劑/分散劑不會受到生物污染。